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真空蒸鍍

真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術(shù)，具有成膜方法簡單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)和性能等優(yōu)點(diǎn)。

蒸鍍的物理過程包括：沉積材料蒸發(fā)或升華為氣態(tài)粒子→氣態(tài)粒子快速從蒸發(fā)源向基片表面輸送→氣態(tài)粒子附著在基片表面形核、長大成固體薄膜→薄膜原子重構(gòu)或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。將基片放入真空室內(nèi)，以電阻、電子束、激光等方法加熱膜料，使膜料蒸發(fā)或升華，氣化為具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子團(tuán)）。氣態(tài)粒子以基本無碰撞的直線運(yùn)動飛速傳送至基片，到達(dá)基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并發(fā)生表面擴(kuò)散，沉積原子之間產(chǎn)生二維碰撞，形成簇團(tuán)，有的可能在表面短時停留后又蒸發(fā)。粒子簇團(tuán)不斷地與擴(kuò)散粒子相碰撞，或吸附單粒子，或放出單粒子。此過程反復(fù)進(jìn)行，當(dāng)聚集的粒子數(shù)超過某一臨界值時就變?yōu)榉€(wěn)定的核，再繼續(xù)吸附擴(kuò)散粒子而逐步長大，終通過相鄰穩(wěn)定核的接觸、合并，形成連續(xù)薄膜。

真空蒸鍍的關(guān)鍵參數(shù)

飽和蒸氣壓(PV): 在一定的溫度下，真空室中蒸發(fā)材料的蒸氣在與固體或液體平衡過程中所表現(xiàn)的壓力.飽和蒸氣壓與溫度的關(guān)系曲線對于薄膜制作技術(shù)有重要意義，鍍銀多少錢，它可以幫助我們合理選擇蒸發(fā)材料和確定蒸發(fā)條件。

真空度：P ≤ 10-3 Pa（保證蒸發(fā)，粒子具分子流特征，以直線運(yùn)動）

基片距離 (相對于蒸發(fā)源)：10~50 cm（兼顧沉積均勻性和氣相粒子平均自由程）蒸發(fā)出的原子是自由、無碰撞的， 沉積速度快。容易根據(jù)蒸發(fā)原料的質(zhì)量、蒸發(fā)時間、襯底與蒸發(fā)源的距離、襯底的傾角、材料的密度等計算薄膜的厚度。

電鍍加工需要提供溫度來進(jìn)行拋光的金屬有鋼鐵、鎳、鉛等，若溫度低于某一定值，就會失去光滑的腐蝕表面，故存在一個形成光澤面的臨界點(diǎn)，在臨界點(diǎn)以上的溫度范圍內(nèi)拋光效果較好。而這個溫度范圍又因液體的組成不同而異，如果高于這個溫度范圍，會形成點(diǎn)蝕、局部污點(diǎn)或斑點(diǎn)，使整個拋光效果降低。此外，溫度越高，合肥鍍銀，材料的溶解損失也越大。

(2)銅及其合金的化學(xué)拋光。銅和單相銅合金可在磷酸一一醋酸或硫酸一一鉻酸型溶液中進(jìn)行化學(xué)拋光

在使用過程中需經(jīng)常補(bǔ)充，拋光時如果二氧化氮析出較少，零件表面呈暗黃色時，可按配置量的1/3補(bǔ)充。為防止過量的水帶入槽內(nèi)，零件應(yīng)干燥后再拋光。

(3)鋁及鋁合金的化學(xué)拋光。為獲得光亮的表面，必須嚴(yán)格控制拋光液的含量。含量過低，拋光速度慢且拋光后表面光澤性差；含量過高，容易發(fā)生鱗狀腐蝕。磷酸濃度低時，不能獲得光亮的表面，為了防止溶液被稀釋，拋光前的零件表面應(yīng)干燥。醋酸和硫酸可以抑制點(diǎn)狀腐蝕，使拋光表面均勻、細(xì)致。硫酸銨和尿素可以減少氧化氮的析出，并有助于改善拋光質(zhì)量。少量的銅離子可以防止過腐蝕，從而提高拋光表面的均勻性，但含量過高又會降低拋光表面的反光能力。鉻酐可以提高鋁鋅銅合金的拋光質(zhì)量，鍍銀廠家，含鋅、銅絲高的強(qiáng)度鋁合金在不含鉻酐的拋光液中，難以獲得光亮的表面。

經(jīng)化學(xué)拋光的零件，表面鍍銀，一般應(yīng)在室溫下于400—500g/L的中或在100~200g/L的鉻酐溶液中，浸漬數(shù)秒至數(shù)十秒，以除去表面的接觸銅。

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